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东方集成SENTECH SI500D等离子体沉积系统成功运用

导读: 2012年3月,东方集成在上海某研究所成功安装了SENTECH SI500D等离子体沉积系统。

  2012年3月,东方集成在上海某研究所成功安装了SENTECH SI500D等离子体沉积系统。SI500D等离子沉积系统是ICP-PECVD设备,用于在基片上沉积 SiOx, SiOxNy或 SiNy薄膜。沉积薄膜的厚度、折射率、应力可以简单的、连续的调节。

  这是带LOADLOCK的SI500D等离子沉积系统在中国的第一次安装。SENTECH ICP-PECVD设备的安装,由德国原厂技术支持工程师和东方集成工程师共同完成,由SENTECH和东方集成共同承担售后保修,具有标志性的历史意义。

  本次的安装,体现了东方集成为客户考虑,将工作做完美的一贯宗旨,也标志着SENTECH中国区等离子体刻腐蚀和沉积系统业务在与东方集成的合作中进入了飞速、稳定的发展。

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